企业邮箱登录

欢迎访问武汉如星科技有限公司官方网站

027-86514680

武汉如星科技有限公司

Wuhan Ruxing Technology Co., Ltd.

COPYRIGHT  2019 武汉如星科技有限公司    

鄂ICP备88888888号-1   

网站建设:中企动力  武汉

武汉如星科技有限公司

Wuhan Ruxing Technology Co., Ltd.

查看手机官网


新闻中心

公司新闻

行业动态 

 

 

top

产品展示

PRODUCTS DISPLAY

浏览量:
产品名称

CMP抛光垫

1
0
没有此类产品

  化学机械抛光垫是化学研磨抛光工艺技术(Chemical Mechanical Polishing,简称CMP)的关键核心材料,主要起贮存抛光液并把它运送到工件的整个加工区域使抛光均匀、去除抛光过程产生的残留物、传递材料去除所需的机械能量及维持抛光过程所需的机械和化学环境等作用。我公司将以IC芯片抛光工艺材料为切入点进入集成电路产业,形成“双极并举”的发展态势。

 

未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
暂未实现,敬请期待
暂未实现,敬请期待
上一篇
下一篇